October 11, 2022
Mô hình máy: RT1200-FCEV
Công nghệ: với PECVD + PVD Magnetron phún xạ lắng đọng: mục tiêu Si, Cr, Carbon, để tạo ra từ trường khép kín không cân bằng cho mật độ cao, tính đồng nhất cao và lắng đọng màng chống ăn mòn tuyệt vời.
Thời gian xây dựng: 2016
Địa điểm: Thượng Hải, Trung Quốc
Cài đặt & Kiểm tra: 3 ngày
Vận hành & đào tạo: 7 ngày
ĐâyRT1200-FCEVhệ thống lắng đọng phún xạ magnetron chân không cao là một mô hình được thiết kế riêng dựa trên mô hình Multi950-R & D mà chúng tôi đã chế tạo cho Đại học Thượng Hải.
Nó được thiết kế với buồng Octal, các màn trình diễn linh hoạt và đáng tin cậy được sử dụng rộng rãi trong các ứng dụng khác nhau.Nó đáp ứng các quy trình phủ đòi hỏi nhiều lớp kim loại khác nhau: Ta, Cr, Si, Graphit, Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS và nhiều kim loại phi điện từ khác;cộng với bộ nguồn Ion, tăng cường hiệu quả độ bám dính của màng trên các vật liệu nền khác nhau với hiệu suất khắc plasma và quy trình PECVD để lắng đọng một số lớp dựa trên carbon.
Cấu trúc thiết bị: Hướng thẳng đứng, cấu trúc hình bát giác, 2 cửa (mở trước và sau) để dễ dàng tiếp cận.
Tính năng thiết bị:
Hệ thống thân thiện với môi trường, không có chất thải nguy hại.
Tích hợp tổng thể, thiết kế mô-đun
Thương mại hóa và tiêu chuẩn hóa cho sản xuất hàng loạt trong công nghiệp
Nguồn ion cực kỳ hiệu quả để kết dính mạnh mẽ và độ ion hóa cao.
Hoạt động dễ dàng: Màn hình cảm ứng + điều khiển PLC, thao tác một chạm
Với phần mềm Royal Tech, các thông số quy trình có thể được lập trình, lưu và tái tạo.
Thiết kế đặc biệt của hệ thống Carousel để lắng đọng có độ đồng đều cao.
Năng suất cao và ổn định, làm việc 24/7 trong tuần.
Linh hoạt, phù hợp với nhiều kích thước tấm khác nhau, dùng cho lớp phủ một mặt hoặc hai mặt.
Vui lòng liên hệ với chúng tôi để biết thêm thông tin.
