Tantalum (Ta) Thin Film Magnetron Sputtering Deposition System-RTSP1000

Sự lắng đọng của Tantalum, vàng kim loại quý bằng Sputtering 

Sputtering được sử dụng rộng rãi để lắng đọng kim loại lửa như tantalum, titanium, tungsten,Niobium, đòi hỏi nhiệt độ lắng đọng rất cao, và kim loại quý: Vàng và bạc và cũng được sử dụng để lắng đọng các kim loại mốc nóng chảy thấp như đồng, nhôm, niken, crôm v.v.

Tantalum được sử dụng nhiều nhất trong điện tử ngành công nghiệpnhư một lớp phủ bảo vệ vì khả năng chống xói mòn tốt.

Phim tantalum phun được sử dụng rộng rãi trong
1. Ngành công nghiệp vi điện tử vì các bộ phim có thể được phun phản ứng và do đó có thể kiểm soát điện trở và hệ số nhiệt độ của điện trở;

2Các dụng cụ y tế như cấy ghép cơ thể vì tính tương thích sinh học cao của nó;

3. Lớp phủ trên các bộ phận chống ăn mòn, chẳng hạn như thermwells, thân van và các vật liệu buộc;

4.Sputtered tantalum cũng có thể được sử dụng như là một rào cản chống ăn mòn hiệu quả nếu lớp phủ là liên tục, bị hư hỏng và dính vào chất nền được dự định để bảo vệ.

Công nghệ hoàng gia️Hệ thống lắng đọng xịt tantali tiêu chuẩn: mô hình RTSP1000.
 Tính chất của màng tan-tal:
Chống thấp

Lớp phủ chống ăn mòn và mòn cao trên bề mặt chịu áp lực cao và môi trường hóa học và xói mòn khắc nghiệt. 

Đặc điểm thiết kế:

Thiết kế mạnh mẽ, chất lượng ổn định, chu kỳ nhanh, hệ thống chính xác cao

Cấu trúc thiết bị:

Cấu trúc hệ thống lớp phủ: định hướng dọc, cấu trúc hình tám giác, 2 cửa để dễ dàng truy cập.

Hệ thống thân thiện với môi trường, không có chất thải nguy hiểm.

Tích hợp hoàn toàn, thiết kế mô-đun
Bán hàng và tiêu chuẩn hóa cho sản xuất hàng loạt công nghiệp
Nguồn ion cực kỳ hiệu quả để gắn kết mạnh và ion hóa cao.
Hoạt động dễ dàng: Màn hình cảm ứng + điều khiển PLC, một hoạt động cảm ứng
Thiết kế đặc biệt của hệ thống Carousel cho sự lắng đọng đồng nhất cao.
Năng suất cao và ổn định, làm việc 24/7 một tuần.
Dễ dàng, phù hợp với các kích thước khác nhau của tấm

Các thành phần chính

Nguồn ion cho quá trình lắng đọng hỗ trợ:

Nguồn ion cho quá trình plasma iteching:

Máy RT1200-FCEV là một hệ thống phun mực mô hình lô có thể lắng đọng các lớp phủ cứng, lớp phủ mềm,phim hợp chất và phim bôi trơn rắn trên các chất nền vật liệu kim loại và phi kim loạiỨng dụng cho các ngành công nghiệp của xe pin nhiên liệu hydro, sản phẩm quang tử, hàng không vũ trụ và các ngành công nghiệp năng lượng mới khác.

Hiệu suất của các phim lắng đọng:

Để cải thiện độ dẫn của bề mặt;

Chống ăn mòn cao;

Kháng mài cao;

Độ cứng cao

Phim tạo thành chất chống nước và các phim chức năng khác

Có sẵn cho các lớp phủ hỗn hợp: phim kim loại và phi kim loại.

Phạm vi độ dày phim từ 100nm đến 12μm, dung sai độ dày ± 5%

Sự bám sát mạnh.

Điều trị làm cứng bề mặt các bộ phận có độ nóng thấp.

Loại:

Định hướng dọc, cấu trúc octal, 2 cửa (trước và sau)

Ưu điểm thiết kế:

• Hệ thống thân thiện với môi trường, không có nước thải công nghiệp, ô nhiễm không khí và tiếng ồn;
• Hoạt động dễ dàng: Màn hình cảm ứng + điều khiển PLC và chương trình phần mềm độc đáo cho một hoạt động cảm ứng, báo động bắn trúng hơn 80%.
• Tối đa 10 công thức xử lý đăng nhập và sao lưu; khả năng lặp lại và đa dạng cao.
• Thiết kế đặc biệt của hệ thống Carousel cho sự đồng nhất cao của sự lắng đọng phim.
• Sản lượng cao và chất lượng cao
• Hệ thống ổn định và đáng tin cậy, hoạt động 365 ngày * 24 giờ (thời gian bảo trì và sửa chữa)
• Hệ thống bơm hiệu quả: đường ống chân không ngắn hơn cho tốc độ ống dẫn tối đa với các thương hiệu bơm nổi tiếng của châu Âu
• Thiết kế nhỏ gọn chiếm không gian lắp đặt tối thiểu.

Liên hệ với chúng tôi để biết thêm chi tiết. kiến thức.