|
| Tên thương hiệu: | ROYAL TECHNOLOGY |
| Số mẫu: | RTSP900-RTSP1400-RTSP1800 |
| MOQ: | 1 bộ |
| giá bán: | có thể đàm phán |
| Điều khoản thanh toán: | L / C, T / T |
| Khả năng cung cấp: | 10 bộ / tháng |
Công nghệ phủ Magnetron Sputtering cho phép các gương có nhu cầu thông lượng cao do tốc độ lắng đọng nhanh.
Không có khả năng hệ thống phun trực tuyến, chi phí sản xuất thấp cho phép các doanh nhân bắt đầu kinh doanh với đầu tư thấp.
Đặc điểm
Công nghệ xanh, quy trình thân thiện với môi trường;
PVD bánh Chrome nhẹ hơn 80% so với bánh Chrome
PVD Black Chrome / PVD Bright Chrome / PVD Neo-Chrome có thể được tạo ra
Royal Technology cung cấp 3 máy tiêu chuẩn để đáp ứng nhu cầu năng suất khác nhau:
RTSP 900, dung lượng 1 bộ; kích thước nhỏ, chủ yếu cho dịch vụ sửa chữa
RTSP1400, dung lượng 4 bộ; kích thước trung bình, cho sản xuất quy mô nhỏ
RTSP1800, dung lượng 8 chiếc; kích thước lớn, cho bánh xe sản xuất hàng loạt
Thông số kỹ thuật
|
Mô tả |
Đối với gương xe | Đối với bánh xe ô tô | ||
| RTSP1400-PLUS | RTSP900 | RTSP1400 | RTSP1800 | |
| Mục tiêu có sẵn | Chrominum, nhôm, thép không gỉ, đồng, đồng, titanium, bạc vv | |||
|
Công suất
|
Tối đa 4,86 m2 |
Tối đa: 27" x 1 đơn vị
|
Max. kích thước 25 "x 4 đơn vị Tối đa: 27" x 2 đơn vị |
Max. kích thước 22 "x 8 đơn vị
|
| Phòng khai |
φ1400 *H1600mm
|
φ900 * H900mm
|
φ1400 * H1600mm
|
φ1800 * H1800mm
|
|
Chiều kính tải (Tối đa.) |
6*φ360mm | 1 trục | 1 trục |
4 trục * φ560mm
|
| Chiều cao tải (Có hiệu lực) |
1200mm | 700mm | 1100mm | 1400mm |
| Nguồn ký quỹ |
4 bộ máy phun bình 1 bộ máy phun phẳng |
2 bộ máy phun phẳng W125*L850mm | 2 bộ máy phun phẳng W125 * L1350mm | 2 bộ máy phun phẳng W125 * L1650mm |
| Sức mạnh phun | Tối đa 40KW | Tối đa 30KW | Tối đa 40KW | Tối đa 60KW |
| Hệ thống vận hành và điều khiển |
Tiêu chuẩn CE Màn hình cảm ứng Mitsubishi PLC+ Chương trình hoạt động với backup
|
|||
Công nghệ phun magnetron là gì?
Magnetron sputtering là một hình thức khác của công nghệ sơn PVD.
Lớp phủ plasma
Magnetron sputtering là một quá trình lớp phủ plasma mà theo đó vật liệu phun được phóng ra do việc bắn phá các ion lên bề mặt mục tiêu.Phòng chân không của máy sơn PVD được lấp đầy với một khí trơBằng cách áp dụng điện áp cao, một sự giải phóng phát sáng được tạo ra, dẫn đến gia tốc các ion đến bề mặt mục tiêu và một lớp phủ plasma.Các argon-ion sẽ đẩy ra các vật liệu phun từ bề mặt mục tiêu (phóng), dẫn đến một lớp phủ phun trên các sản phẩm ở phía trước của mục tiêu.
Chất phun phản ứng
Thông thường, một loại khí bổ sung như nitơ hoặc acetylene được sử dụng, sẽ phản ứng với vật liệu bị phóng ra (phát xạ phản ứng).Một loạt các lớp phủ phun có thể đạt được với kỹ thuật lớp phủ PVD nàyCông nghệ phun Magnetron rất thuận lợi cho lớp phủ cắt giảm (ví dụ Ti, Cr, Zr và Carbon Nitrides), vì bản chất mịn màng của nó.Lợi thế tương tự khiến magnetron sputtering được sử dụng rộng rãi cho lớp phủ tribological trong thị trường ô tô (e.g. CrN, Cr2N và các kết hợp khác nhau với lớp phủ DLC - Diamond Like Carbon coating).
Sân từ
Magnetron sputtering hơi khác với công nghệ sputtering chung. sự khác biệt là công nghệ sputtering magnetron sử dụng từ trường để giữ plasma ở phía trước mục tiêu,tăng cường việc bắn phá các ionMột plasma rất dày đặc là kết quả của công nghệ lớp phủ PVD này.
Công nghệ phun thuốc từ từ được đặc trưng bởi:
